ASML阿斯麦签约无锡，会促进中国音圈电机光刻设备技术发展？

 5月14日，微信公众号无锡发布发布消息，全球芯片制造设备巨头阿斯麦（ASML)）公司与无锡高新区签署战略合作协议，在无锡高新区内扩建升级阿斯麦光刻设备技术服务（无锡）基地（下称“基地”）。

报道指出升级后的基地涵盖两大业务板块：拥有近200人规模专业团队的技术中心，将从事光刻设备的维护、升级等技术服务；面积约2000余平方米的供应链服务中心，将为客户提供高效的供应链服务，为设备安装，升级及生产运营等所需的物料提供更高水准的物流支持。

“无锡是我们的福地。”签约仪式上，阿斯麦公司全球副总裁、中国区总裁沈波介绍，阿斯麦早在2006年就已在无锡开展业务，阿斯麦公司目前在无锡的服务物流中心，规模和面积在全国领先；据了解，此前阿斯麦已经在北京、上海、深圳、无锡等地开设分公司，为客户提供的服务和咨询，其中深圳是其在亚洲最大的软件研发中心。

据同茂电机了解又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

光刻工艺最主要的工件就是掩模和基片。光刻机掩模台系统中直线音圈电机马达平台运动工况分为扫描运动和定位运动，其中扫描运动主要完成硅片曝光处理，该运动对定位精度以及速度稳定性有极高要求，在稳定基础上追求时间的优化。然而，在扫描运动过程中，频繁加减速对系统机械框架产生冲击，影响光刻机定位精度，因此，合理规划扫描运动轨迹至关重要。

光刻机是半导体制造领域的核心设备之一，阿斯麦公司是全球技术水平最高、影响力最大的光刻设备供应商，也是全球最先进极紫外（EUV）光刻机的唯一供应商。

极紫外光刻机作为现今最先进的芯片制造设备，据同茂电机所知，当下能够满足7nm线宽制程工艺要求的EUV光刻工艺使用的是13nm光源，而世界范围内能够达到这种水平的光刻机制造商暂时只有一家，那就是ASML，因此也被称为“突破摩尔定律的救星”。但是，对于工艺制程在90nm及以上工艺的光刻机，我国也是有研发生产能力的，且已经非常成熟。

阿斯麦报告显示，今年的一季度，他们共接到了客户的73台光刻机订单，其中11台是极紫外光刻机。

半导体行业人士表示，因为光刻机比较精密，所以设备运过来之后，装调也是相当重要的一个环节。精密、高价值的设备都得有专人维护着，比如飞机发动机等，需要有定期的检修之类。之前尼康、佳能的光刻机装调就需要几个月，AMSL的光刻机需要的时间更是至少不低于1个月。

光学设备和其他装备不大一样，光学设备一般都有人数较多的装调团队，并且装调也是光学设备里面一项重要工作，ASML在193nm就是靠装调PK掉了日本的尼康和佳能。

目前长三角先进制程半导体工厂有中芯国际上海基地、南京台积电工厂、无锡SK海力士DRAM工厂、合肥长鑫DRAM工厂等。另外，近期华虹半导体无锡基地12英寸生产线实现了高性能90nm FSI工艺平台产品投片。而ASML无锡技术服务基地将不仅仅服务无锡，还将服务整个长三角地区。

不久前北京国望光学科技宣布，该公司价值10亿元的增资方案已经在北京产权交易所完成，该公司引入了中国科学院长春光学精密机械与物理研究所和中国科学院上海光学精密机械研究所作为战略投资者，两家机构以无形资产作价10亿元入股，对应持股比例为33.33%。要知道，中科院下属的长春、北京研究所本身也是国内光刻机研发领域的重要力量，现在三家公司进行了紧密合作，意味着北京在推动国产光刻机核心部件生产方面迈出实质性步伐，将加快突破国产先进光刻机制造命脉问题。

 就国内的半导体行业来说，发展还刚刚起步，还需要很多的技术来进行升级，而无锡和AMSL的合作就是完美的契合了这一点，虽然AMSL的光科技非常难得，但是现在和无锡展开了合作，并且开始建造光刻机的设备技术基地，这将极大促进国内的芯片行业发展升级。